装置・材料

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プラズマとは?半導体のエッチング・成膜に使う理由と仕組みを図解

半導体は、シリコンの円盤であるウェーハの上に、薄い膜や細かな回路を作って製造します。その加工に使われるのが「プラズマ」です。エッチングでは膜を取り除き、成膜では新しい膜を作り、アッシングでは不要になったレジストを除去します。同じプラズマを使...
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超純水とは?純水との違い・半導体で使う理由・製造と水質管理の仕組み

半導体工場では、ウェーハを加工する途中で何度も水を使います。ただし、使うのは水道水ではなく、不純物を極めて少なくした「超純水」です。「きれいな水なら、純水でもよいのでは?」「18.2 MΩ・cmという数字は何を意味する?」「フィルターを通せ...
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半導体洗浄装置とは?枚葉式・バッチ式の違いと洗浄・乾燥の仕組みを解説

半導体工場では、回路を作る途中で何度もウェーハを洗浄します。取り除くのは、目に見える汚れだけではありません。微小な粒子、金属汚染、有機物、加工後の残留物などが、次の工程や製品の特性に影響するためです。こうした汚染を除去し、必要な膜や回路を傷...
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半導体のコータ・デベロッパとは?レジスト塗布・現像装置の仕組みを初心者向けに解説

半導体のリソグラフィでは、シリコンウエハーの上にフォトレジストを塗り、露光・現像によって微細なパターンを作ります。このとき、レジストを塗る加熱する冷却する現像するといった処理を行う装置が、コータ・デベロッパです。コータ・デベロッパは単に、「...
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シリコンウエハーとは?単結晶を使う理由と製造工程・品質の重要性を解説

スマートフォンやパソコン、自動車、家電などに使われている半導体。その多くは、薄い円盤状の「シリコンウエハー」の上に作られています。完成した半導体チップだけを見ると、黒い樹脂で覆われた小さな部品に見えます。しかし、その内部にあるトランジスタや...
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フォトレジストとは?役割・ポジ型とネガ型・i線・KrF・ArFの違いを初心者向けに解説

半導体では、シリコンウエハーの上に非常に細かな回路を作ります。しかし、シリコンや金属膜をいきなり回路の形に削るわけではありません。まず、「どこを加工して、どこを残すのか」を決める必要があります。そのために使われる材料が、フォトレジストです。...